TY  - RPRT
TI  - Top-Down Etch Processes for III-Nitride Nanophotonics.
AU  - Wang, George T.
AU  - Leung, Benjamin
AU  - Tsai, Miao-Chan
AU  - Sapkota, Keshab Raj
AU  - Kazanowska, Barbara Anna
AU  - Jones, Kevin S.
PY  - 2019
DO  - 10.1109/ipcon.2019.8908526
UR  - https://www.osti.gov/biblio/1642613
ID  - 1642613
ER  -