TY  - RPRT
TI  - Modified atomic layer deposition of MoS 2 thin films
AU  - Zeng, Li
AU  - Richey, Nathaniel E.
AU  - Palm, David W.
AU  - Oh, Il-Kwon
AU  - Shi, Jingwei
AU  - Maclsaac, Callisto
AU  - Jaramillo, Thomas
AU  - Bent, Stacey F.
PY  - 2020
DO  - 10.1116/6.0000641
UR  - https://www.osti.gov/biblio/1798891
ID  - 1798891
ER  -