TY  - RPRT
TI  - CO 2 –Based Dual–Tone Resists for Electron Beam Lithography
AU  - Lu, Xin-Yu
AU  - Luo, Hao
AU  - Wang, Kai
AU  - Zhang, Yao-Yao
AU  - Zhu, Xiao-Feng
AU  - Li, Dongxue
AU  - Ma, Bingze
AU  - Xiong, Shisheng
AU  - Nealey, Paul F.
AU  - Li, Qiang
AU  - Wu, Guang-Peng
PY  - 2020
DO  - 10.1002/adfm.202007417
UR  - https://www.osti.gov/biblio/1840930
ID  - 1840930
ER  -