TY  - RPRT
TI  - Thermal Atomic Layer Etching of MoS 2 Using MoF 6 and H 2 O
AU  - Soares, Jake
AU  - Mane, Anil U.
AU  - Choudhury, Devika
AU  - Letourneau, Steven
AU  - Hues, Steven M.
AU  - Elam, Jeffrey W.
AU  - Graugnard, Elton
PY  - 2023
DO  - 10.1021/acs.chemmater.2c02549
UR  - https://www.osti.gov/biblio/1908893
ID  - 1908893
ER  -